熱分解窒化ホウ素（PBN）は先進的なセラミックスです。純度は99.99%で、六方晶窒化ホウ素等級に属します。それは化学蒸着プロセスによって生産され、固体を形成し、すべての窒化ホウ素結晶は蒸気蒸着の表面に平行に成長します。溶融炉、電気、マイクロ波、半導体素子の理想的な材料です。
熱分解窒化ホウ素るつぼの用途：
1.半導体単結晶とIII−V化合物の合成
2.異形及び定形黒鉛コーティング
3.GaAs、GaP単結晶の合成
4.化合物半導体をエピタキシャル成長させるために、ガリウム（Ga）及びアルミニウム（Al）を含む様々な材料を蒸発させる。
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