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News | January 01,1970
BN陶瓷喷嘴的应用

BN是一种热压六方氮化硼，具有独特的化学、电气、机械和热性能组合。它适用于各种高性能应用。BN陶瓷喷嘴广泛应用于航空航天、半导体等各种高温高性能行业，近年来因其以下独特性能而备受关注：     1.卓越的热稳定性 氮化硼陶瓷喷嘴的熔点约为2900°C，可在高真空和惰性气体环境中分别用于1800°C和2100°C的温度。 2.抗热震性 氮化硼喷嘴能够承受快速的温度变化而不会开裂。因此，它可用于温度波动剧烈的场所。 3.极强的耐腐蚀性 氮化硼陶瓷具有极强的耐酸碱等化学腐蚀性。它可以保护喷嘴免受所处理物料的侵蚀，从而降低污染风险并延长使用寿命。 4.自润滑性 氮化硼材料具有自润滑性。它可以确保熔融物料不会粘附在喷嘴上，防止堵塞并确保物料流动顺畅。 5.电绝缘性 氮化硼是一种优异的电绝缘体，因此适用于高压或等离子等应用。     材料特性 材料成分 BN+ZrO2 99 BN 密度 2.8g/cm2-2.9g/m3 2g/cm 颜色 白色石墨 白色 抗弯强度 90MPa 35MPa 抗压强度 220MPa 85MPa 热导率 30W/(m.k) 40W/(m.k) 热膨胀系数 (20-1000°C) 3.5 10-6/K 1.8 10-6/K 最高工作温度 惰性气体中 1800 °C 惰性气体中 2100 °C 高真空中 1800 °C 高真空中 1800 °C 大气中
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News | January 01,1970
四重極質量分析用四重極セラミックカラー

当社は テクニカル セラミック ソリューションの製造で 10 年を超える経験を持ち、セラミック絶縁体コンポーネント、セラミック カラー、セラミック スクエア フレーム、セラミック サドル、セラミック ロッド、 セラミック フィラメント サポート、セラミック オリフィス プレート、セラミック ヒーターなどの四重極質量分析セラミック コンポーネントを専門としています。   QMS四重極質量分析法は、イオンが四重極場を通過する際に質量電荷比（m/z）に基づいてフィルタリングされる分析技術として広く用いられています。四重極は、写真に示すように、放射状に配列された特定の長さの4つの電極で構成されています。これらのセラミック絶縁体コンポーネントは、ゼロックススキャン質量分析装置に使用できます。   お客様の四重極質量フィルタ設計の検証・試作段階で使用されるセラミック絶縁部品の少量生産をサポートいたします。セラミック材料と設計はカスタマイズ可能です。標準カラーは99.5%アルミナセラミック製で、サイズは36.4×36.4×12mmです。電極ロッドはモリブデン製です。 カラーは円形やその他のカスタムデザインにも対応可能です。図面をお送りいただければ、すぐに製作いたします。   当社は、プラスチックや金属が抱える問題を解決する幅広い材料を提供しています。セラミックは、分析機器に必要な機械的、電気的、熱的、その他の特性を提供するのに最適です。99.5%アルミナや金属シールを備えた95%セラミックなどの材料で作られた部品は、プラスチックや金属が抱える問題を解決します。     参考までに、99.5 アルミナ セラミック材料の特性を以下に示します。   99.5アルミナセラミック材料の特性 項目 値 主な構成 Al2O3>99.6% 密度 >3.95 硬度 (Gpa) 15~16 室温電気抵抗率 (Ω·cm) >10 14 最高使用温度(℃） 900.00 3点曲げ強度 (MPA) 450.00 圧縮強度 (MPA) 45.00 ヤング率 (Gpa)
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News | January 01,1970
質量分析計用MCHヒーター

質量分析計は、質量と電荷の比に基づいて電磁場内で気体イオンを配列することにより、化学物質を分析および識別する技術です。   質量分析計はボーリング孔1本あたりほとんどの分析対象物質を検出できるため、汚染のない熱源が不可欠です。さらに、機器設計においては、サイズと複雑さを軽減しながら感度を向上させるという相反する要件を満たすことが求められています。   質量分析計の 加熱素子は、ソースヒーターまたはガスラインヒーターとも呼ばれ、質量分析計において、サンプル（通常は水溶液または有機溶媒）を分析用の蒸気に変えるために使用されます。分析部と検出器部の前段では、ヒーターはサンプル調整システムの一部であり、そこで気化したサンプルはイオン化された高エネルギー電子によって照射され、分析されます。   質量分析計に使用されるヒーターは、コンパクトな設計で、かなり高い電力密度を提供します。応答速度が速く、最高400℃の温度で動作します。正確な制御と温度制限のために、内部に温度センサーが組み込まれています。   INNOVACERAの優位性   新規設計のエンジニアリングサポート ラピッドプロトタイピング 交換部品   当社 さまざまな質量分析計メーカーおよびモデル向けの OEM および交換用ヒーターを製造しています。     MCHヒーターの利点   MCHセラミック発熱体は、高効率、環境に優しく、省エネです。セラミック発熱体は、主に最も広く使用されている合金線発熱体とPTC発熱体およびコンポーネントの代替として使用されます。   技術的特徴: 省エネ、高熱効率、PTCに比べて単位発熱量の20～30%削減。 表面は安全で帯電せず、優れた絶縁性能を備え、4500V/1Sの電圧試験に耐え、絶縁破壊がなく、リーク電流は0.5mA未満です。 インパルスピーク電流がなく、電力減衰がなく、急速加熱が可能で、裸火を使用せずに安全です。 優れた熱均一性、高い電力密度、長寿命です。   結論   MCHヒーターは、コンパクトな設計、急速加熱、精密な温度制御、そしてエネルギー効率を実現することで、性能に革命をもたらしました。これらの高度な加熱素子により、質量分析計は汚染のない熱源を備え、精度と効率性が向上します。   MCH ヒーターについてご質問がございましたら、sales@innovacera.com までお問い合わせください。
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News | January 01,1970
PBNヒーターはどのように機能しますか？断熱材は何ですか？

PBNヒーターとは何ですか？ PBN材料とは、CVD高温堆積法で得られる熱分解窒化ホウ素 材料を指します。BNは、ホットプレス法で得られる立方晶窒化ホウ素を指します。 The common thickness of PBN parts is less than or equal to 3mm due to the different acquisition processes. PBN ヒーター とは、PBN 基板上にグラファイトの薄層を堆積し、機械加工（レーザー彫刻）によりグラファイト帯を形成したグラファイトヒーターを指します。 最後にグラファイト層をPBNカバー層（電極部分が露出した層）で覆い、グラファイトヒーターが完成します。   処理方法はいくつありますか? 一般的に、2つの方法があります： 1番目: PBNシートに良好な溝を作り、熱分解グラファイトでコーティングします。次に、PBNコーティング層を追加します（PBNディスクで刻まれた回路の外側に、熱分解グラファイトを堆積させ、さらにPGの表面にPBN層を堆積させます）。厚さは約mmで、電圧と電流を調整し、最後にグラファイト層を追加します。 厚さは約3mm程度で、電圧と電流はお客様のご要望に応じて調整しますが、低電圧・高電流、高速加熱が推奨されます。 2番目: グラファイト トラフが良好で、次にトラフの両面に PBN をコーティングしますが、グラファイトを加熱装置として使用すると、交流加熱により磁気共鳴が発生し、PBN コーティングが剥がれやすくなります。そのため、この製造方法は推奨されません。 一般的には最初の方法に従って、この製造方法は推奨されません。   したがって、基板および絶縁被覆層は PBN であり、発熱体はグラファイト テープであることがわかります。   なぜこのように製造されるのでしょうか? グラファイトまたは熱分解グラファイトで表面をコーティングしたグラファイトは、加熱分野で広く使用されていますが、真空および高温条件下ではグラファイトが不純物を析出し続け、超高純度材料を汚染します。そこで、非多孔性で熱膨張係数が低い窒化ホウ素（PBN）の利点を活かし、グラファイト外層にPBNコーティングを施すことで、グラファイトによって析出した不純物を遮断し、超高純度材料の汚染を防ぎます。コーティング後のグラファイトは、何度も加熱されても、窒化ホウ素の表面層が剥がれにくい構造となっています。   メリット: PBN加熱パッドは化学的安定性、耐腐食性などの利点を有し、一般的にサンプルの最高加熱温度は約1200℃で、E-5mbarの酸素雰囲気下で動作可能です。 動作中は、PBNカバー層とグラファイト層の剥離による急激な温度上昇や温度低下を避けるように注意する必要があります。また、電極間の電気的接触が良好であることも確認し、接触部の過熱や電極の損傷を防ぐように注意する必要があります。   パフォーマンス特性を要約する: -真空中の最高温度
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News | January 01,1970
中国、半導体産業向けセラミックヒーターの国産化を推進中

中国が半導体技術の自給自足を推進する中、国内メーカーは先進的なセラミックヒーターの生産に注力しています。セラミックヒーターは半導体製造装置の重要な部品であり、主要な半導体製造プロセスにおける正確な温度制御を担うため、現代の半導体製造工場には欠かせない存在となっています。     半導体製造においてセラミックヒーターが重要な理由は何でしょうか？   半導体製造においては、ウェハは薄膜堆積（CVD、PECVD、ALD）やエッチングなどのプロセスを経て、極めて精密かつ均一な加熱処理を受けます。従来の金属ヒーターは、熱膨張とパーティクル汚染のリスクにより、高温（500℃以上）では限界があります。     性能比較：窒化アルミナ（AlN）ヒーターとアルミナヒーター   No 特徴 アルミナヒーター 窒化アルミナ（AlN）ヒーター 1 動作温度 R.T ~ 450 °C (Max)  R.T~800℃ 2 融点 660.25℃  1800 °C (Sintering Temp.) 3 熱伝導率 230 W/m·K  170–220 W/m·K 4 熱膨張係数 23.6 × 10⁻⁶ /°C   4.03 × 10⁻⁶ /°C   セラミックヒーターのメリット   窒化アルミナ (AlN)、窒化ケイ素 (Si₃N₄)、またはアルミナ (Al₂O₃) から作られたセラミックヒーターは、優れた性能を発揮します。   –
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News | January 01,1970
BNセラミックノズルの応用

BNは、化学的、電気的、機械的、熱的特性のユニークな組み合わせを備えたホットプレス六方晶窒化ホウ素です。高性能が要求されるさまざまな用途に適しています。 BNセラミックノズルは、航空宇宙や半導体などのさまざまな高温・高性能産業で使用されており、以下の独自の特性により近年大きな注目を集めています。     1. 優れた熱安定性 融点が約2900℃のBNセラミックノズルは、高真空および不活性ガス環境において、1800℃と2100℃の温度範囲で使用できます。 2. 耐熱衝撃性 BNノズルは、急激な温度変化にも割れることなく耐えることができます。そのため、温度変化が激しい場所でも使用できます。 3. 優れた耐腐食性 窒化ホウ素セラミックは、酸やアルカリなどの化学的腐食に対して高い耐性を備えています。ノズルを取り扱う物質から保護し、汚染のリスクを低減し、寿命を延ばします。 4. 自己潤滑性 BN材料は自己潤滑性を有しています。溶融材料がノズルに付着するのを防ぎ、目詰まりを防ぎ、スムーズな材料の流れを確保します。 5. 電気絶縁性 BNは優れた電気絶縁体であるため、高電圧やプラズマなどの用途に適しています。     材料特性 材料構成 BN+ZrO2 99 BN 密度 2.8g/cm2-2.9g/m3 2g/cm 色 ホワイトグラファイト 白 曲げ強度 90MPa 35MPa 圧縮強度 220MPa 85MPa 熱伝導率 30W/(m.k) 40W/(m.k) 熱膨張係数 (20-1000°C) 3.5 10-6/K 1.8 10-6/K 最高使用温度 不活性ガス中1800 °C 不活性ガス中 2100 °C   高真空中 1800
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News | January 01,1970
China avanza en la producción nacional de calentadores cerámicos para la industria de semiconductores

A medida que China impulsa su autosuficiencia en tecnología de semiconductores, los fabricantes nacionales se esfuerzan por producir calentadores cerámicos avanzados. Estos calentadores son componentes esenciales en los equipos de fabricación de chips. Garantizan un control preciso de la temperatura durante los procesos clave de fabricación de semiconductores, lo que los hace indispensables en las
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News | January 01,1970
中国半导体陶瓷加热器国产化取得进展

随着中国半导体技术自给自足的不断推进，国内制造商正努力生产先进的陶瓷加热器。陶瓷加热器是芯片制造设备的关键部件，能够确保关键半导体制造工序的精确温度控制，是现代晶圆厂不可或缺的关键部件。     为什么陶瓷加热器在半导体制造中如此重要？   在半导体生产中，晶圆要经过薄膜沉积（CVD、PECVD、ALD）和蚀刻等工艺，这些工艺需要极其精确且均匀的加热。传统金属加热器在高温（500°C 以上）下使用受限，原因是热膨胀和颗粒污染风险。     性能对比：氮化铝 (AlN) 加热器与铝加热器   编号 产品 铝加热器  铝加热器 1 工作温度 室温 ~ 450 °C (最高)  室温 ~ 800℃ 2 熔点 660.25℃  1800 °C （烧结温度） 3 热导率 230 W/m·K  170–220 W/m·K 4 热膨胀系数 23.6 × 10⁻⁶ /°C   4.03 × 10⁻⁶ /°C   陶瓷加热器的优势 由氮化铝 (AlN)、氮化硅 (Si₃N₄) 或氧化铝
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News | January 01,1970
The Application of BN Ceramic Nozzle

BN is a hot-pressed hexagonal boron nitride with a unique combination  of chemical, electrical, mechanical and thermal properties. It is suitable for a range of applications where high performance is required. BN ceramic nozzle is used in various high-temperature and high-performance industry like aerospace and semiconductor, which has gained much attention in recent years due to its unique properties below:     1.Exceptional Thermal Stability With melting point of approximately 2900°C, BN ceramic nozzle can be used for temperature 1800 °C and 2100°C separately
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News | January 01,1970
Cabezal láser Cynosure Elite Plus Cavidad cerámica Cavidad láser Reflector cerámico

La cavidad láser cerámica es un tipo de cavidad láser fabricada con materiales cerámicos de alúmina. Forma parte integral de un sistema láser, creando y manteniendo la acción láser. Los reflectores láser cerámicos son reflectores difusos de alta eficiencia. La reflexión difusa casi perfecta y la alta eficiencia de reflexión se aprovechan eficazmente en sistemas
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News | January 01,1970
¿Cuáles son las aplicaciones del nitruro de boro en la industria aeroespacial?

El nitruro de boro tiene una amplia gama de aplicaciones en la industria aeroespacial, ayudando a mejorar el rendimiento, la fiabilidad y la seguridad de los vehículos aeroespaciales. Recubrimientos protectores de alta temperatura: El nitruro de boro presenta una excelente estabilidad a altas temperaturas y resistencia a la oxidación, lo que lo convierte en un
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News | January 01,1970
China Advances in Domestic Production of Ceramic Heaters for Semiconductor Industry

As China pushes for self-sufficiency in semiconductor technology, domestic manufacturers are striving to produce advanced ceramic heaters. Ceramic heaters are critical components in chip-making equipment. They ensure precise temperature control during key semiconductor manufacturing processes, making them indispensable in modern fabs.     Why Ceramic Heaters Matter in Semiconductor Manufacturing?   In semiconductor production, wafers